Micron начала производство памяти 3D NAND второго поколения

Micron Technology огласила о том, что начала производство многослойной памяти типа 3D NAND второго поколения в фабричном комплексе Fab 10X в Сингапуре. Новоиспеченный тип памяти позволит Micron укрепить позиции на рынке твердотельных накопителей, а также несколько снизить себестоимость энергонезависимой памяти. Помимо прочего, выпуск второго поколения 3D NAND повергнет к увеличению ёмкости накопителей Micron, Crucial, а также их партнёров.

Micron начала производство памяти 3D NAND второго поколения

Штаб-квартира Micron

Новоиспеченные вызовы

В ходе встречи и телеконференции с инвесторами и финансовыми аналитиками в этом месяце Micron подтвердила, что основы массовое изготовление 3D NAND флеш-памяти с 64 слоями в производственном комплексе Fab 10X в Сингапуре в четвёртом квартале этого календарного года, что отвечает заявленным ранее срокам. Сам по себе анонс означает как вступление в строй новой фабрики, так и грядущее существенное увеличение производства NAND флеш-памяти компанией Micron: как за счёт увеличения числа обрабатываемых кремниевых пластин с соответствующими микросхемами, так и за счёт увеличения ёмкости заключительных. Кроме того, сам анонс массового производства энергонезависимой памяти с 64 деятельными слоями является знаменательным, поскольку означает, что компании удалось разрешить ряд технических проблем, которые возникают при создании 3D NAND c 60 ~ 70 слоями.

Micron начала производство памяти 3D NAND второго поколения

3D NAND разработки Micron/IMFT второго поколения: планы по снижению себестоимости

Эр-Сюань Пин (Er-Xuan Ping), правящий директор подразделения памяти и технологий в Silicon Systems Group компании Applied Materials, находит, что сегодняшние технологии травления (high aspect ratio etch) дыр в огромном количество слоёв (которые отвечают за линии чисел — word lines), чтобы затем создать черты разрядов (bit line, в терминологии 3D NAND — NAND string), имеют ряд ограничений. Эти ограничения не позволяют морить отверстия в случае, когда количество слоёв превышает 60 ~ 70. Таким манером, для создания 3D NAND с 64 активными слоями предполагается применять технологию вертикального стекирования черт разрядов (string stacking). По сути, это означает установку готовых 3D NAND-изделий товарищ на друга с последующим межчиповым соединением, что позволит контроллеру «видать» два устройства как одну микросхему и управлять ею соответствующим образом. Подобное союз представляет собой чрезвычайно сложный процесс, поскольку пластины с микросхемами должны быть идеально выровнены. Преимущества подобного процесса также очевидны: он позволяет основывать NAND-сборки с сотнями слоёв и колоссальной ёмкостью.

«Это ограничение», — произнёс господин Пин. «Каждая линия разрядов ограничена количеством слоёв или иными шагами технологического процесса».

Micron начала производство памяти 3D NAND второго поколения

Микросхемы NAND флеш-памяти в незапятнанной комнате фабрики IMFT

Micron не единственная компания, какая объявила о массовом производстве микросхем NAND флеш-памяти с 64 слоями. Samsung и Toshiba/Western Digital также разработали свои 64-слойные конструкции. Примечательно, что ни одна из трёх компаний не упомянула о string stacking в своих анонсах соответственных микросхем. В отрасли ходят слухи, что Micron демонстрировала 64-слойный 3D NAND чип с соединёнными чертами разрядов некоторым своим партнёрам, но официально компания про это никогда не сообщала. Очень может быть, что Micron и её конкуренты нашли способ травления бездонных отверстий с использованием существующего оборудования или просто решили не упоминать особенности производства в своих официальных документах.

Новоиспеченные перспективы

Надо сказать, что 64-слойное поколение 3D NAND флеш-памяти сделается не только существенным испытанием с точки зрения производства, но и во многом отворит новые горизонты. Дело в том, что ёмкость таких микросхем обещает быть весьма высокой, причём планы Micron (и IMFT) здесь наиболее амбициозны (компания имеет вящую гибкость в области увеличения ёмкости микросхем благодаря размещению логическим цепей микросхем под самой памятью, что экономит площадь основы): каждая 3D TLC NAND-микросхема второго поколения компании будет владеть ёмкость 768 Гбит (96 Гбайт).

Micron начала производство памяти 3D NAND второго поколения

SSD на базе 3D NAND

Официально Micron пока не анонсировала микросхемы памяти 3D NAND второго поколения, а потому мы не обладаем всей полнотой информации о них. Тем не немного, компания раскрыла ключевые особенности чипов. Во-первых, на IEEE International Solid-State Circuits Conference в феврале Micron обрисовала микросхему 3D TLC NAND ёмкостью 768 Гбит. Во-вторых, на 34-й конференции NASDAQ для инвесторов в июне финансовый директор компании заявил, что микросхемы 3D NAND второго поколения повысят вдвое ёмкость по сравнению с чипами первого поколения (т. е. с 384 Гбит до 768 Гбит). В-третьих, в этом месяце Micron подтвердила присутствие 64 активных слоёв в своей памяти 3D NAND второго поколения. В компании рассчитывают, что увеличение ёмкости микросхем позволит Micron снизить себестоимость производства одного колочена NAND флеш-памяти на 30 процентов.

Двукратное увеличение ёмкости 3D TLC NAND-микросхем до 768 Гбит может позволить Micron использовать такие чипы в MLC-конфигурации ёмкостью 512 Гбит (впрочем, сама Micron об этом никогда не сообщала). Между тем значительное увеличение ёмкости имеет как плюсы, так и минусы. С одной сторонки, они дают возможность создавать устройства хранения данных большенный ёмкости в миниатюрных форм-факторах (например, односторонний модуль M.2 ёмкостью 3 Тбайт). С иной стороны, SSD небольшого объёма будут иметь крайне низенькую производительность из-за отсутствия параллелизма при чтении и записи. В случае с первым поколением 3D NAND компании Micron пришлось отказаться от накопителей ёмкостью 120/128 Гбайт собственно из-за потенциально низкой производительности последних. Может случиться, что в вытекающем году компании придётся отказаться от выпуска уже накопителей класса 240/256 Гбайт. Кроме того, радикальное повышение ёмкости может сказаться на степени выхода годных и цене.

Micron начала производство памяти 3D NAND второго поколения

SSD производства Micron/Crucial

В отличие от Micron, её конкуренты формально анонсировали свои 64-слойные 3D NAND-микросхемы. Так, Samsung огласила о планах начать производство своих 64-слойных V-NAND четвёртого поколения в заключительном квартале 2016 года. Новые чипы будут владеть трёхбитовую ячейку (TLC), ёмкость 512 Гбит (по всей видимости, MLC буду выпускаться в облике отдельных микросхем или иметь меньшую ёмкость). Как только Samsung опробует V-NAND четвёртого поколения на различного рода картах памяти и других съёмных накопителях, она будет использована для производства SSD в 2017 году.

Что прикасается Toshiba/Western Digital, то они поставляют свою 64-слойную BiCS NAND третьего поколения кой-каким своим клиентам уже несколько месяцев. Более того, первая продукция на базе этих микросхем (съёмные накопители) должна сойти с конвейера уже в четвёртом квартале. Toshiba и Western Digital весьма осмотрительно подходят к увеличению ёмкости своих чипов NAND, а потому изначально BiCS3 будет поставляться в конфигурации TLC с ёмкостью 256 Гбит, но в дальнейшем ёмкость будет повышена до 512 Гбит. Следует отметить, что Western Digital находит возможным использовать 64-слойную BiCS 3D NAND в твердотельных накопителях. Таким манером, в 2017 году мир, наконец, увидит SSD на базе 3D NAND под торговыми марками Toshiba и Western Digital.

Leave a Reply